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真空鍍膜設(shè)備

簡(jiǎn)要描述:鍍膜設(shè)備主要功能能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜,且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強(qiáng)等。

  • 所在城市:無(wú)錫市
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-10-16
  • 訪  問(wèn)  量:1288

詳細(xì)介紹

品牌LEBO/雷博
  鍍膜設(shè)備主要功能
 
  鍍膜設(shè)備是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的科學(xué)儀器,能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜,且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強(qiáng)等。
 
  1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。
 
  2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。
 
  3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。
 
  4.主要用途:
 
  1. 開(kāi)發(fā)納米級(jí)單層、多層及復(fù)合膜層等。
 
  2. 制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等,例:銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
 
  3. 兩靶單獨(dú)濺射、依次濺射、共同濺射。
 
  5.應(yīng)用領(lǐng)域:
 
  1. 高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品等。
 
  2. 鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、OLED、OPV 太陽(yáng)能電池等行業(yè)。
 
  操作程序
 
  真空鍍膜設(shè)備操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說(shuō)明書(shū)
 
  和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。
 
 ?、贆z查真空鍍膜機(jī)各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。
 
 ?、诖蜷_(kāi)總電源開(kāi)關(guān),設(shè)備送電。
 
  ③低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥,聽(tīng)不到氣流聲后,啟動(dòng)升鐘罩閥,鐘罩升起。
 
 ?、馨惭b固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。
 
 ?、萋湎络娬帧?br /> 
 ?、迒?dòng)抽真空機(jī)械泵。
 
 ?、唛_(kāi)復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號(hào):Fzh-1A)。
 
  a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。
 
  b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí),左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。
 
  ⑧當(dāng)?shù)驼婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。
 
 ?、嵴婵斟兡C(jī)開(kāi)通冷卻水,啟動(dòng)擴(kuò)散泵,加熱40min。
 
 ?、獾蛪洪y拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序:左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),開(kāi)高壓閥(閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn))。
 
  ?等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí),開(kāi)規(guī)管燈絲開(kāi)關(guān)。
 
  a.發(fā)射、零點(diǎn)測(cè)量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。
 
  b.左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。
 
  ?旋轉(zhuǎn)發(fā)射調(diào)節(jié)鈕“4”,使高壓真空表“5”內(nèi)指針指向5。
 
  ?發(fā)射、零點(diǎn)、測(cè)量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向零點(diǎn)位置。
 
  ?旋轉(zhuǎn)零點(diǎn)調(diào)節(jié)鈕“10”,讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向0位置。
 
  ?發(fā)射、零點(diǎn)、測(cè)量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向測(cè)量位置。
 
  ?旋轉(zhuǎn)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)節(jié)鈕“3”,讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向10。
 
  ?旋轉(zhuǎn)“倍加器”開(kāi)關(guān)鈕“8”至指向10-12,當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時(shí)針左移超過(guò)1時(shí),再把“倍加器”開(kāi)關(guān)旋鈕“8”旋轉(zhuǎn)至指向10-3。
 
  ?當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時(shí)針移動(dòng)超過(guò)6.7Pa時(shí),開(kāi)工件旋轉(zhuǎn)鈕開(kāi)關(guān),鐘罩內(nèi)被鍍件PVDF膜轉(zhuǎn)動(dòng)。
 
  ?開(kāi)蒸發(fā)鈕開(kāi)關(guān)。把電流分插塞插入蒸發(fā)電極分配孔內(nèi)(設(shè)有1、2、3、4孔,可插入任意一孔)。
 
  ?右手旋轉(zhuǎn)右側(cè)調(diào)壓器手輪,慢慢旋轉(zhuǎn)升壓。
 
  a.從視鏡窗口觀察鎢螺旋加熱子的加熱溫度顏色變化情況。
 
  b.當(dāng)鎢螺旋加熱子顏色變成黃橙色,鋁絲開(kāi)始熔化時(shí),左手操作擋板鈕,移開(kāi)鎢螺旋上方擋板。
 
  c.鋁絲全部熔化蒸發(fā),擋板回原位。
 
  d.右手旋轉(zhuǎn)調(diào)壓器手輪回零位。第一次蒸鍍工作完成。
 
  21.如果再想蒸鍍一次(為了增加電極金屬層厚度):把電流分插塞撥出插入另一個(gè)電極分配孔。重復(fù)?操作動(dòng)作。
 
  22.關(guān)閉規(guī)管燈絲開(kāi)關(guān)。關(guān)閉高壓閥(逆時(shí)針轉(zhuǎn)手柄)。關(guān)閉工件旋轉(zhuǎn)。關(guān)閉蒸發(fā)。旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵鈕至指向擴(kuò)散泵位置。
 
  23.低壓閥拉出。鐘罩充氣。充氣一段時(shí)間,當(dāng)沒(méi)有氣.聲時(shí),升鐘罩。
 
  24.鎢螺旋加熱子內(nèi)加鋁絲。PVDF薄膜調(diào)換另一面向下(原下面已鍍一層鋁膜面向上)。緊固在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。
 
  25.落鐘罩。開(kāi)機(jī)械泵。
 
  a.左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。
 
  b.當(dāng)?shù)蛪赫婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)到6.7Pa時(shí),低壓閥推入。
 
  c.左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。
 
  d.當(dāng)?shù)蛪赫婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)到6.7Pa時(shí),開(kāi)高壓閥。旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。
 
  e.當(dāng)?shù)蛪赫婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)到指向0.1Pa時(shí),開(kāi)規(guī)管燈絲。
 
  f.由?開(kāi)始重復(fù)操作至?。
 
  26.PVDF薄膜蒸鍍完鋁層后,按順序關(guān)閉規(guī)管燈絲、高壓閥、機(jī)械泵、擴(kuò)散泵。把低壓閥拉出。鐘罩充氣,充氣完畢后升鐘罩。取出工件,做好鐘罩內(nèi)清理工作。
 
  a.落下鐘罩。
 
  b.開(kāi)機(jī)械泵,抽3~5min,停機(jī)械泵。
 
  c.切斷供電總開(kāi)關(guān)。
 
  d.1h后再關(guān)閉冷卻水。操作全部完成。
 
  27.正常生產(chǎn)中,如遇到突然停電時(shí),要立即切斷高真空測(cè)量,關(guān)閉規(guī)管燈絲,高壓閥、低壓閥拉出。來(lái)電后,先讓機(jī)械泵啟動(dòng)工作3~5min后,再轉(zhuǎn)入正常生產(chǎn)。
 
圖片7.png
 

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