簡要描述:全封閉式桌面顯影機 主要用于半導體制造中晶片的顯影工藝,性價比高,穩(wěn)定性好,重復性好,對顯影作業(yè)有非常理想的效果。設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,并且噴嘴位置可程控移動,實現自動顯影和清洗作業(yè)。
相關文章
Related Articles詳細介紹
品牌 | LEBO/雷博 | 產地類別 | 國產 |
---|---|---|---|
應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,能源,電子 | 產品尺寸 | 550mm (W) x600mm (D) x405mm (H) |
產品優(yōu)勢
·全封閉式顯影,避免霧氣擴散到外部,污染環(huán)境。
·外殼噴塑,耐腐蝕,易清洗。
·內腔不銹鋼材質,鏡面拋光處理,光滑,耐腐蝕,易清洗。
·內置真空過濾器,防止液體吸入真空泵。
·真空壓力可調,壓力值實時顯示。
·液體流量可調,回吸可調。
產品參數
支持wafer尺寸:碎片至200mm(8"圓晶)
·轉速分辨率:±1 RPM
·旋涂速度:20-3000rpm(空載)
·旋涂加速度:20-10,000rpm/sec(空載)
·工藝時間設定: 0-3,000sec/step,時間設置精度: 0.1sec
·該機型適用于標準3路顯影機(1路顯影液,1路純水,1路氮氣)
·單步工藝及多步工藝可選,內置100組可編輯程序
·可根據客戶需求定制四管路顯影機或更大基片的顯影機。
產品咨詢